Nickel-Phosphor

NiP (chemisch + elektrolytisch)

NiP Schichten lassen sich chemisch (stromlos) und elektrolytisch abscheiden. Je nach Phosphorgehalt weist die Schicht unterschiedliche Eigenschaften auf. Die Schichten lassen sich in 3 Kategorien einteilen:

  • Low Phos: P-Gehalt < 6%
  • Mid Phos: P-Grhalt 6-9%
  • High-Phos: P-Gehalt > 10%

GHG bietet Mid-Phos Schichten stromlos und High Phos Schichten elektrolytisch abgeschieden an.

Chemisch (aussenstromlos) abgeschiedene Nickelschichten können äusserst gleichmässig auf Werkstücke aufgebracht werden (kein Knocheneffekt). Dieses Verfahren bietet also vor allem Vorteile bei sehr präzisen Bauteilen mit schwierig einzuhaltenden Toleranzen. Elektrolytisch abgeschiedene NiP-Schichten bieten die Härte und antimagnetischen Eigenschaften bei geringeren Kosten. Für Anwendungen auf hochbeanspruchten Kontakten werden auf eine 2-4μm dicke NiP-Schicht (elektrolytisch oder chemisch) 0.1-0.2 μm Hartgold abgeschieden. Mit dieser dünnen Goldschicht auf der harten NiP-Schicht sind Verschleiss- und elektrische Eigenschaften erreichbar, die sonst nur mit wesentlich dickeren Goldschichten (z.B. 0.8 µm Au auf 2 µm Ni) zu erreichen sind. Die Schichten sind im Trommel-, Gestell- und Vibrationsverfahren abscheidbar.

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Physikalische Daten der Schicht:

Mikrohärte HV: 600-1000 (ISO 4516-1980)
Phosphorgehalt:
chemisch 6-9% (Mid-Phos)
elektrolytisch 10-13% (High-Phos)

Mögliche Einsatzgebiete:

Telecom, Steckverbinder, Hochfrequenztechnik, Kontakte, Luftfahrt, Raumfahrt, Defense